El objetivo principal del proyecto es el desarrollo de un proceso de pretratamiento de sustratos dificiles mediante plasma a temperatura ambiente  para aplicaciones de electronica impresa mediante serigrafia e inkjet. El desarrollo del pretratamiento será realizado por los socios de la «Gheorghe Asachi» Technical University of Iasi y la labor de NAITEC será su validación en aplicaciones de electronica impresa por tecnología inkjet tanto en plano como utilizando la planta piloto R2R disponible en NAITEC. Para ello y durante el proyecto NAITEC desarrollará una tinta inkjet conductora de propiedades adaptadas a los sustratos que serán tratados con el prototipo desarrollado por los socios rumanos. Entre los dispositivos a desarrollar por NAITEC se incluyen sensores capacitivos, antenas, calefactables impresos y circuitos híbridos.